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2018上海复旦大学高分子科学系微电子材料课题组招聘科研助理公告

发布:2018-05-09 11:26:16    来源:上海公务员考试网 字号: | | 我要提问我要提问
  2018上海复旦大学高分子科学系微电子材料课题组招聘科研助理公告已公布,申请时间为2018年4~7月。上海公务员考试网现将具体信息公布如下:
  2018上海复旦大学高分子科学系微电子材料课题组招聘科研助理公告
  【课题组简介】
  导师简介:
  邓海博士,国家千人特聘专家,复旦大学高分子科学系,聚合物分子工程国家重点实验室,教授,博士生导师。师从活性自由基聚合和活性阳离子聚合的先驱者Sawamoto教授,曾在美国Akron大学高分子系、加州伯克利大学化学系深造,关于立体可控聚合的研究成果收录在美国的教科书中。此外,邓教授拥有丰富的产业经验,特别是乳液聚合、半导体光刻材料的研发经验。曾任美国罗门哈斯公司(现为陶氏化学公司)高级研究员、美国英特尔公司材料部门高级主管,东京应用化学公司Fellow。
  主要研究领域有:
  主攻下一代半导体制程用的光刻材料,特别是10 nm以下分辨率材料的设计合成及应用。课题组受到国家及企业的大力支持,研究经费充足,拥有完善的光刻材料的合成,表征及性能测试平台。目前已经攻克了5 nm~ 10 nm高分辨率的聚合物纳米材料。
  课题组主页:http://www.polymer.fudan.edu.cn/polymer/research/denghai/
  【课题背景简介】
  半导体制造中最关键的材料是光刻胶,有多高分辨率的光刻胶就能造出多小的器件。过去的50年内,半导体产业一直沿着Moore’s law前行。Intel、台积电和三星微电子都已进入了7 nm分辨率的EUV光刻工艺,并将很快进行量产。面对半导体芯片领域向更小、更快和更高密度方向发展的趋势,下一代 10~5 nm 半导体制程的光刻技术和材料已成为全球半导体行业的研发热点。
  目前国内的半导体工艺研发也进入了14 nm制程,国内只能量产低端的i-线光刻材料(国外30年前的产品),国内的高端光刻胶产业几乎处于空白状态,所有的90 nm~ 14 nm制程用的光刻材料完全依靠日本进口。
  下一代10 nm及以下半导体制造所需的EUVL和DSA光刻材料,目前被美国和日本企业所垄断。为了不再受制于人,我国急需研发探索10纳米以下的下一代光刻材料来打破了技术壁垒,实现弯道超车。目前本组已研发出世界上最快速自组装的、5 nm超高分辨率的DSA材料,该成果已发表在SPIE(美国光电协会)等国际会议上,受到广泛好评。为了更好地保护本组知识产权,目前已申请了若干中国及美国专利,相关论文正在整理之中。
  【招聘基本要求】
  由于科研工作需要,本课题组招聘科研助理1~2名,具体要求如下:.
  1、有强烈的事业心,希望成为半导体微电子材料行业专才的优秀学生;
  2、拥有有机合成、高分子合成、材料背景的硕士或以上学历(应届的或者有工作经验的);
  3、具有良好的英文阅读和写作能力,能快速查阅外文文献;
  4. 性格开朗,有个人魅力。最好是体育爱好者。
  【工作内容】
  1、科研
  2、处理课题组的文书工作。
  【用工方式】租赁制
  【个人待遇】
  课题组为入选者提供优越的科研条件和稳定的支持,工资待遇按照市场情况面谈,课题组根据研究进展和贡献给予补贴。
  【应聘申请材料】
  请应聘者将申请材料(简历和代表论文全文)发至yuyunliu@fudan.edu.cn。
  【招聘时间】申请时间为2018年4~7月。
  原标题:高分子科学系微电子材料课题组招聘科研助理

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